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            半導(dǎo)體光刻烤箱晶圓涂膠烤箱

            半導(dǎo)體光刻烤箱晶圓涂膠烤箱、光刻涂膠用烘箱是一種提供高溫凈化環(huán)境的特殊潔凈烘干設(shè)備。箱內(nèi)空氣封閉自循環(huán)。經(jīng)耐高溫高效空氣過濾器過濾,使烘箱工作室內(nèi)處于無塵狀態(tài)。

            • 產(chǎn)品型號:
            • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
            • 更新時間:2025-09-16
            • 訪  問  量:2442
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            產(chǎn)品詳情

            半導(dǎo)體光刻烤箱晶圓涂膠烤箱、光刻涂膠用烘箱性能介紹

            半導(dǎo)體光刻烤箱晶圓涂膠烤箱、光刻涂膠用烘箱

            是一種提供高溫凈化環(huán)境的特殊潔凈烘干設(shè)備。箱內(nèi)空氣封閉自循環(huán)。經(jīng)耐高溫高效空氣過濾器過濾,使烘箱工作室內(nèi)處于無塵狀態(tài)。潔凈烘箱工作室為光亮型全不銹鋼結(jié)構(gòu)。工作室內(nèi)溫度采用智能式數(shù)顯溫度控制儀進行自動控制P.I.D調(diào)節(jié),數(shù)顯時間控制,并設(shè)有斷路及超溫報警,操作方便,使用安全。
            半導(dǎo)體光刻烤箱,晶圓涂膠烤箱、光刻涂膠用烘箱

            可滿足電子電器、醫(yī)藥、實驗室等生產(chǎn)及科研部門中凈化干燥。特殊要求溫度可達350℃-400℃并且可加裝氮氣進出口。

            、光刻涂膠用烘箱技術(shù)參數(shù):      

            1.內(nèi)部尺寸:600*500*750(mm) (內(nèi)尺寸可選擇)

            2.內(nèi)箱分層:三層

            3. 溫度范圍:RT+10℃~300℃。

            4.溫度波動:<±1℃。

            5.溫度均勻:±2%(空載測試)。

              依測規(guī)范:測SENSOR置放點,離內(nèi)箱壁內(nèi)尺寸1/10處。

            6.溫控裝置:高精度P.I.D智能溫控儀表, LED數(shù)字顯示及設(shè)定、P.I.D自動演算、時間定時。

            溫控輸出:SSR輸出,品牌繼電器,固態(tài)繼電器。                    

            測溫裝置:1支PT100 鉑 電阻溫度傳感裝置,測溫精確。

            氣體控制裝置:高效過濾氣體中微粒。

            7.內(nèi)室材料:采用無磁性鏡面不銹鋼;外箱采用 SS41# 中碳鋼板經(jīng)磷酸皮膜鹽處理后兩層防光面涂裝烤漆,可防止微塵(PARTICLE) 。

            8.保溫材質(zhì):硅酸鋁。

            9.特質(zhì)復(fù)合式SUS304#不銹鋼電熱產(chǎn)生器。

            保護裝置:超溫保護器,無熔絲開關(guān)。

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