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            HMDS預(yù)處理系統(tǒng)(JS-HMDS90 )-真空烘箱

            HMDS預(yù)處理系統(tǒng)(JS-HMDS90 )是將“去水烘烤“和HMDS處理放在同一道工藝,同一個容器中進(jìn)行,晶片在箱內(nèi)先經(jīng)過100℃-200℃的去水烘烤,再進(jìn)行HMDS處理,不需要從箱內(nèi)傳出,而接觸到空氣,晶片吸收水分子的機會大大降低,所以有更好的處理效果。

            • 產(chǎn)品型號:
            • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
            • 更新時間:2025-09-17
            • 訪  問  量:2591
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            聯(lián)系電話:021-31434441

            產(chǎn)品詳情

            HMDS預(yù)處理系統(tǒng)(JS-HMDS90 )用途:

               在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個工藝環(huán)節(jié),涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量,涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗,同時濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。增黏劑 HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS氣相沉積至半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍(lán)寶石、晶圓等材料表面后,經(jīng)系統(tǒng)加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?/span>其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合,起著偶聯(lián)劑的作用。

            HMDS預(yù)處理系統(tǒng)(JS-HMDS90 )技術(shù)性能:

            1.尺寸(深*寬*高)
            內(nèi)腔尺寸:450×450×450(mm)(可定制)
            外形尺寸:750×1120×1650(mm)
            2. 材質(zhì)
            外箱采用優(yōu)質(zhì)冷軋板噴塑,內(nèi)箱采用 316L 醫(yī)用級不銹鋼
            3.溫度范圍
            RT+50-200℃
            4.溫度分辨率
            0.1℃
            5.溫度波動度
            ≤±0.5
            6 真空度
            ≤133pa(1torr)
            7.電源及總功率
            AC 220V±10% / 50HZ
            總功率約 3.5KW
            8.控制儀表
            人機界面
            9.擱板層數(shù)
            2 層
            10.HMDS控制
            可控制HMDS 藥液添加量
            11.真空泵
            無油渦旋真空泵
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