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            產(chǎn)品中心

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            堅膜烘箱 百級潔凈烘箱 氮氣無塵烘箱

            堅膜烘箱 百級潔凈烘箱 氮氣無塵烘箱是通過加溫烘烤使膠膜更加牢固的粘附在晶圓表面,并可以增加膠層的抗刻蝕能力的一道光刻膠工藝。

            • 產(chǎn)品型號:JS-MOL00
            • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
            • 更新時間:2025-09-17
            • 訪  問  量:1480
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            聯(lián)系電話:021-31434441

            產(chǎn)品詳情

            堅膜烘箱 百級潔凈烘箱 氮氣無塵烘箱注意事項

            堅膜就是通過加溫烘烤使膠膜更加牢固的粘附在晶圓表面,并可以增加膠層的抗刻蝕能力的一道光刻膠工藝。

            堅膜并不是一道必需工藝。如后續(xù)為刻蝕工藝,建議進行堅膜,來提高光刻膠的穩(wěn)定性,如果后續(xù) 工藝為lift-off工藝,一般不建議進行堅膜工藝,因為堅膜后光刻膠穩(wěn)定性提高,反而不利于剝離的進行。

            另外,一定要注意堅膜的溫度,過高的溫度會光刻膠結(jié)構(gòu)變形、融化甚至圖形消失。

            堅膜烘箱 百級潔凈烘箱 氮氣無塵烘箱光刻膠變化

            1)熱變形

            非交聯(lián)型光刻膠的結(jié)構(gòu),即顯影后的正膠和圖形反轉(zhuǎn)膠結(jié)構(gòu)在加熱后的軟化溫度取決于前面軟烘烤工藝。

            2)溶劑變化

            減少殘留溶劑的含量實際上是勻膠工藝后前烘步驟的意義。然而,在厚膠工藝的情況下,即使是在推薦的前烘條件下,在靠近襯底附近的光刻膠中仍然包含相當高的溶劑。

            3)光引發(fā)劑熱分解

            在正膠情況下,相當一部分光引發(fā)劑在120℃下 幾分鐘內(nèi)就會分解。雖然在顯影后不再需要光引發(fā)劑進行光反應,但在未曝光狀態(tài)下,它有助于提高光刻膠膜在堿性環(huán)境中的穩(wěn)定性,以及用于隨后的濕法蝕刻步驟或在pH值為>7的溶液中進行的電鍍工藝。

            4)熱交聯(lián)

            在正膠情況下,樹脂在130℃-140℃下熱交聯(lián)強度逐漸增強,這可以顯著提高光刻膠對堿性或有機溶劑的化學穩(wěn)定性。

            5)光刻膠脆性

            在烘烤過程中,殘余溶劑的含量進一步降低以至于光刻膠結(jié)構(gòu)的彈性也隨之降低,同時光刻膠結(jié)構(gòu)與氧氣反應,在120 -130℃左右開始光刻膠開始脆化。光刻膠和襯底材料的不同熱膨脹系數(shù)不同會導致裂紋的產(chǎn)生。產(chǎn)生的這些光刻膠裂紋對后續(xù)濕法刻蝕與電鍍的影響是非常不利的。

            堅膜烘箱 潔凈烘箱 氮氣無塵烘箱工藝特點

            如果必須做堅膜工藝,可以通過控制降溫速度來減小裂紋的形成。例如,通過隨爐子冷卻來減小裂紋的產(chǎn)生。出于同樣的原因,烘烤后的襯底應小心處理,并應避免變形,如襯底彎曲,這些對于PI膠做鈍化層(PI固化爐)的應用顯得尤為重要。

            堅膜烘箱技術(shù)性能

            全周激光滿焊,SUS304#不銹鋼電熱產(chǎn)生器,防機臺本身產(chǎn)生微塵;

            采用特殊風道,水平送風,溫度均勻性佳;

            可定值運行,多段程序運行;

            設(shè)備采用雙腔室一體設(shè)計,獨立控制,節(jié)省空間;

            溫度范圍: RT+10~200、300/400℃;

            溫度均勻度:≤±1.5%℃;

            潔凈度:class100,適用潔凈間;

            設(shè)備尺寸:45*45*50(CM)

            計時功能:0~ 99H99M可調(diào);

            降溫方式:可選配

            保溫材料:超細陶瓷纖維;

            隔 板:1-10層;



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