晶圓粘附HMDS預(yù)處理系統(tǒng) 半導(dǎo)體粘附設(shè)備適用于傳統(tǒng)的硅基集成電路制造，在第三代半導(dǎo)體（如SiC、GaN）、良好封裝（TSV、Fan-Out）、以及Micro-LED巨量轉(zhuǎn)移等新興領(lǐng)域，

晶圓粘附HMDS預(yù)處理系統(tǒng) 半導(dǎo)體粘附設(shè)備的重要性

  在亞微米乃至納米級別的芯片制造世界中，光刻是定義電路圖形的核心環(huán)節(jié)。然而，一個常常被忽視的前道工序——晶圓表面預(yù)處理，卻是決定光刻成敗的“隱形守護者"。您是否曾困擾于光刻膠的粘附不足，導(dǎo)致在顯影或刻蝕階段出現(xiàn)令人頭疼的“底膜"（Undercut）或“膠層剝離"？這些微小的缺陷，正是最終影響器件性能與產(chǎn)線良率的元兇之一。六甲基二硅氮烷（HMDS）氣相預(yù)處理，作為提升光刻膠粘附力的標準解決方案，其工藝質(zhì)量直接關(guān)乎制造的成敗。

精準控制技術(shù)： 采用獨特的加熱多區(qū)獨立溫控設(shè)計，能夠?qū)崟r補償晶圓邊緣的熱損失，確保從中心到邊緣的HMDS反應(yīng)溫度梯度越小。

動態(tài)終點監(jiān)測與閉環(huán)反饋： 系統(tǒng)集成高靈敏度的監(jiān)測模塊，可控制HMDS蒸汽的吸附狀態(tài)。通過智能算法，調(diào)整涂覆時間控制劑量，形成工藝閉環(huán)，從根本上杜絕了因人為設(shè)置或環(huán)境波動導(dǎo)致的批次間差異。

• 均勻性與一致性：可在2-12英寸晶圓上實現(xiàn) > 99% 的膜厚均勻性成為可能，處理后接觸角范圍為50~95°，均勻性可達±3°

• 產(chǎn)能與效率： 可批量生產(chǎn)2-12寸晶圓，一個或多個casstaer

• 精確控制： 溫控精度、真空度控制、HMDS蒸汽控制精確至S

• 自動化與集成： 可集成到現(xiàn)有生產(chǎn)線，設(shè)備支持SECS/GEM協(xié)議

• 成本效益： HMDS消耗量更低，維護成本和耗材成本非常低，故障率幾乎為0 

• 特殊工藝支持：可選擇圖像翻轉(zhuǎn)工藝

• 安全守護：配有HMDS泄露監(jiān)測器，實時監(jiān)測
  

部分用戶反饋使用我司HMDS預(yù)處理系統(tǒng)后，生產(chǎn)工藝得到了改善

• 光刻膠相關(guān)缺陷率下降： 超過 70%

• 整體產(chǎn)品良率提升： 穩(wěn)定提升至 98.5% 以上

  晶圓粘附HMDS預(yù)處理系統(tǒng) 半導(dǎo)體粘附設(shè)備應(yīng)用
  

  該系統(tǒng)不僅適用于傳統(tǒng)的硅基集成電路制造，在第三代半導(dǎo)體（如SiC、GaN）、良好封裝（TSV、Fan-Out）、以及Micro-LED巨量轉(zhuǎn)移等新興領(lǐng)域，設(shè)備的粘附促進能力同樣展現(xiàn)出巨大潛力。穩(wěn)定的表面處理是這些 技術(shù)實現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化的基石。 適用于半導(dǎo)體晶圓制造廠（Foundry）、集成電路設(shè)計公司的工藝研發(fā)部門、MEMS制造企業(yè)、光罩生產(chǎn)、化合物半導(dǎo)體（如GaN， SiC）器件制造商、科研院所和高校的微納加工實驗室。 良好封裝（AP）廠商、LED制造商、微流控芯片研發(fā)公司等。