等離子真空蒸鍍系統(tǒng) 真空等離子鍍膜機(jī)利用高頻高壓電源在一定的真空環(huán)境或特定氣體氛圍中產(chǎn)生等離子體.通過(guò)高能離子撞擊材料表面，去除表面的污染物、雜質(zhì)，使表面粗糙化，增加表面積。從而改變材料表面的化學(xué)性質(zhì)，提高其親水性、粘結(jié)性、耐磨性等性能。將增粘劑（或偶聯(lián)劑、抗粘劑）氣相沉積在基材（硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍(lán)寶石、晶圓等材料）表面后，經(jīng)加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將基底表面

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更新時(shí)間：2025-12-20
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等離子真空蒸鍍系統(tǒng) 真空等離子鍍膜機(jī)

利用高頻高壓電源在一定的真空環(huán)境或特定氣體氛圍中產(chǎn)生等離子體.通過(guò)高能離子撞擊材料表面，去除表面的污染物、雜質(zhì)，使表面粗糙化，增加表面積。從而改變材料表面的化學(xué)性質(zhì)，提高其親水性、粘結(jié)性、耐磨性等性能。將增粘劑（或偶聯(lián)劑、抗粘劑）氣相沉積在基材（硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍(lán)寶石、晶圓等材料）表面后，經(jīng)加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將基底表面由親水變?yōu)槭杷涫杷珊芎玫嘏c光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。

等離子真空蒸鍍系統(tǒng) 真空等離子鍍膜機(jī)功能

電源系統(tǒng)發(fā)生頻率：13.56M

電源類型：射頻電源，功率可調(diào)（含自動(dòng)匹配器）

電極板層數(shù)：2層（或多層）

電極板布置方式：水平布置/豎立布置

電極板間距離：150mm （可指定）

腔體材質(zhì)：內(nèi)箱采用316L不銹鋼

溫度范圍：室溫-150℃

真空度：≤30pa

真空泵：無(wú)油真空泵

偶聯(lián)劑：可選1-2路偶聯(lián)劑進(jìn)液系統(tǒng)

氣路：1-5路可選

清洗功能：等離子清洗時(shí)間、次數(shù)、電源功率等可調(diào)

鍍膜系統(tǒng)：鍍膜時(shí)間，循環(huán)次數(shù)，鍍膜工藝可編輯

操作界面：人機(jī)界面/工控機(jī)

自動(dòng)化功能：可選配MES、GEM等智能系統(tǒng)聯(lián)機(jī)

等離子清洗機(jī)應(yīng)用于清洗光學(xué)器件、電子元件、激光器件、鍍膜基片、芯片改善粘接光學(xué)元件、光纖、生物醫(yī)學(xué)材料、宇航材料等所用膠水的粘和力去除金屬材料表面的氧化物使玻璃、塑料、陶瓷、高聚合物等材料表面活化，增強(qiáng)其表面粘附性、浸潤(rùn)性、相容性高分子材料表面修飾等。

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